Filtr UV 82 mm 0,1% o Bardzo Niskim Współczynniku Odbicia (Powłoka Tytanowa) z 28 Wielowarstwowymi Powłokami z Seria Nano X

Kod produktu: KF01.2468

  • 209
Ogólnie 4.9   30
Reviews
5
Doskonała przejrzystość: filtr refleksyjny o bardzo niskim promieniowaniu UV firmy K&F Concept, rewolucja w fotografii
Szukając nowych narzędzi do realizowania swojej pasji, jaką jest fotografia, natrafiłam na filtr K&F Concept Ultra Low UV Reflex i muszę przyznać, że było to prawdziwe odkrycie. To, co najbardziej podobało mi się w tym produkcie, to jego zdolność do redukcji światła UV i korygowania niebieskiego odcienia, który często pojawia się na moich zdjęciach. Filtr ten nie tylko eliminuje ten niepożądany efekt, ale także w wyjątkowy sposób reguluje współczynnik odbicia światła. Zapewnia transmisję światła na poziomie 99,8% i minimalizuje plamy i aureole na moich zdjęciach. Jakość zdjęć, które udało mi się uchwycić za pomocą tego filtra, przekroczyła moje oczekiwania, nawet w jasnym świetle słonecznym. Ponadto konstrukcja z wysokiej jakości szkła optycznego i 28-warstwowej nanopowłoki okazała się skuteczna nie tylko w ochronie moich soczewek przed zarysowaniami i brudem, ale także zapewnia neutralny balans kolorów i pozwala uniknąć irytujących odbić i „duszów”. Jeśli chodzi o użytkowanie, uważam, że ten filtr jest szczególnie przydatny podczas fotografowania jasnych scen w intensywnym świetle słonecznym, np. B. na plaży lub na śniegu. Ultra cienka aluminiowa rama sprawia, że ​​jest lekki i łatwy w obsłudze, dzięki czemu można go łatwo używać w każdej sytuacji fotograficznej. Nie mogę jednak nie wspomnieć, że efekty filtra mogą czasami być subtelne i różnić się w zależności od sytuacji oświetleniowej. Chociaż ogólnie jestem bardzo zadowolony z jego wydajności i jakości. Krótko mówiąc, filtr UV K&F Concept Ultra Low Reflex był nieocenionym dodatkiem do mojego sprzętu fotograficznego. Jego zdolność do poprawy jakości moich zdjęć, a także trwałość i łatwość obsługi sprawiają, że jest to niezbędne akcesorium dla każdego fotografa, który chce przenieść swoją sztukę na wyższy poziom.
13.02.2024